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光應力 - 教育百科
| 光 | |
| 應 | |
| 力 |
國家教育研究院辭書
基本資料
| 英文： | photostress |
| 作者： | 王偉中 |
| 日期： | 2002年12月 |
| 出處： | 力學名詞辭典 |
辭書內容
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名詞解釋： 光應力是一種光彈性的實驗應力分析技術，在應用它時，係將一種特殊明晰的雙折射材料貼在被測物體的表面上，該表面是平面也可以是曲面，其上塗有反射層，當物體受載後，貼片隨同物體變形，在貼片上產生光彈性效應，使用反射式光彈儀進行觀測時，即可觀測或照相記錄下所需要的等差線和等傾線條紋圖形。 光應力的優點在於試驗模型不局限於透明的雙折射材料模型，它亦可量測不透明材料製作的模型，其材料可以是金屬材料，如鋼、鋁等；也可以是非金屬材料，如混凝土和高分子複合材料等。因此，本技術不僅可在實驗室中使用，亦能在現場應用至原型模型的觀測。它不僅可量測靜態應變，也可配合閃頻光源等設備量測動態應變；此外，此法除了用於彈性應力的分析外，亦可用於彈塑性應力分析，其原理是將原型中複雜的非線性應力情形轉換為貼片中簡單的線彈性問題。 |
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| 資料來源： | 國家教育研究院_光應力 |
| 授權資訊： | 資料採「 創用CC-姓名標示- 禁止改作 臺灣3.0版授權條款」釋出 |
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