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抗光     
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指在光刻時所使用的膜(軟片),用以暫時性的保持電路或晶片圖型於晶圓上。被透過光罩上的光照射到的部份會變硬且具抗強酸,未被光照射到晶圓部分會被強酸洗除而完成電路。
重力侵     
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  侵作用的一種,其侵作用力為重力,稱為重力侵。常見之重力侵現象為陡坡坍方或崩落,在邊坡穩定分析(計算)之時,除了重力之外沒有其他作用力(例如水壓力、風力等)。
    
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  當物體以高速飛行(如物體重返大氣層問題)時,氣流的巨大動能,除了部分因產生強烈震波和加熱氣流外,其他的能量則轉換成熱能而加在物體表面,尤其是物體前端或駐點的受熱最為嚴重。為保護高速飛行物體不因巨大的熱量而銷毀,則必須考慮如何消除這些熱,在技術上稱之為隔熱法(thermal protection technique)。如果物體表面安置一種保護材料,可吸收大量的熱而從物體表面層層脫離或剝,則可保護物體免於銷毀。而從物體表面剝的速率,稱為剝率。
常數     
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  在固態推進劑火箭(solid propellant rocket)之燃燒室中,當剝燃燒(參見 erosive burning)產生時,其推進劑之燃燒速率將高於正常情況下之燃燒速率。在此兩種不同狀況下,推進劑燃燒速率之關係,可藉由浸常數來串聯。例如,經由實驗歸納可將此二燃燒速率之關聯表示為:
  m=m°+kM
  式中m°為無剝燃燒下推進劑之質量燃燒率;m 為在有剝燃燒下推進劑之質量燃燒率;M 為推進劑燃燒後其燃燒產物之質通量(mass flux);而 k 即為浸常數。
    
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用來保護印刷電路不被磨、電鍍、化學鍍或焊接可能造成損害的一層薄膜。
刻劑     
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  一種能將固體物質移去的化學藥劑。
應力腐     
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  結構物由於受到外界環境的影響,例如酸性或鹼性環境中所產生的氧化作用,或結構物在製造過程中內溶有不同物質(如氫)均會造成腐。此種狀況改變了晶粒之邊界,在微觀上,可能造成應力之重新分佈,而再度造成了晶粒邊界之變化和產生新的腐面或裂縫,此等作用即稱為〝應力腐〞。
  一般而言,應力腐之情形尚未被完全了解,應力的情況會因為不同的材料和狀況而改變,故其很難以單一之理論來解釋。
臺地     
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由海浪侵所造成的臺地。
階地     
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海濱拍岸浪沖向坡度較急海灘,水頭向下直落,打擊海濱或海崖,挖掘濱面,破壞石塊,水頭落下之後,又倒流入海,形成濱面回流,並搬運沙礫至海內,長期沉積而成一片平坦且位于低潮面以下之平地。此種平地,乃破壞型海浪所構成,稱之為波階地。台灣東北角野柳岬所見上有球形石及蕈狀石之海濱平台,即波階地之實例。
台地     
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同波階地。
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