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抗光蝕
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指在光刻時所使用的膜（軟片），用以暫時性的保持電路或晶片圖型於晶圓上。被透過光罩上的光照射到的部份會變硬且具抗強酸，未被光照射到晶圓部分會被強酸洗除而完成電路。
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重力侵蝕
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侵蝕作用的一種，其侵蝕作用力為重力，稱為重力侵蝕。常見之重力侵蝕現象為陡坡坍方或崩落，在邊坡穩定分析（計算）之時，除了重力之外沒有其他作用力（例如水壓力、風力等）。
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剝蝕率
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當物體以高速飛行（如物體重返大氣層問題）時，氣流的巨大動能，除了部分因產生強烈震波和加熱氣流外，其他的能量則轉換成熱能而加在物體表面，尤其是物體前端或駐點的受熱最為嚴重。為保護高速飛行物體不因巨大的熱量而銷毀，則必須考慮如何消除這些熱，在技術上稱之為隔熱法(thermal protection technique)。如果物體表面安置一種保護材料，可吸收大量的熱而從物體表面層層脫離或剝蝕，則可保護物體免於銷毀。而從物體表面剝蝕的速率，稱為剝蝕率。
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浸蝕常數
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在固態推進劑火箭(solid propellant rocket)之燃燒室中，當剝蝕燃燒（參見 erosive burning）產生時，其推進劑之燃燒速率將高於正常情況下之燃燒速率。在此兩種不同狀況下，推進劑燃燒速率之關係，可藉由浸蝕常數來串聯。例如，經由實驗歸納可將此二燃燒速率之關聯表示為：
m＝m°＋kM 式中m°為無剝蝕燃燒下推進劑之質量燃燒率；m 為在有剝蝕燃燒下推進劑之質量燃燒率；M 為推進劑燃燒後其燃燒產物之質通量(mass flux)；而 k 即為浸蝕常數。 |
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抗蝕膜
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用來保護印刷電路不被磨蝕、電鍍、化學鍍或焊接可能造成損害的一層薄膜。
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蝕刻劑
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一種能將固體物質移去的化學藥劑。
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應力腐蝕
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結構物由於受到外界環境的影響，例如酸性或鹼性環境中所產生的氧化作用，或結構物在製造過程中內溶有不同物質（如氫）均會造成腐蝕。此種狀況改變了晶粒之邊界，在微觀上，可能造成應力之重新分佈，而再度造成了晶粒邊界之變化和產生新的腐蝕面或裂縫，此等作用即稱為〝應力腐蝕〞。
一般而言，應力腐蝕之情形尚未被完全了解，應力的情況會因為不同的材料和狀況而改變，故其很難以單一之理論來解釋。 |
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波蝕階地
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海濱拍岸浪沖向坡度較急海灘，水頭向下直落，打擊海濱或海崖，挖掘濱面，破壞石塊，水頭落下之後，又倒流入海，形成濱面回流，並搬運沙礫至海內，長期沉積而成一片平坦且位于低潮面以下之平地。此種平地，乃破壞型海浪所構成，稱之為波蝕階地。台灣東北角野柳岬所見上有球形石及蕈狀石之海濱平台，即波蝕階地之實例。
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海蝕台地
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同波蝕階地。
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海蝕臺地
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由海浪侵蝕所造成的臺地。
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貓頭鷹博士