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  雙亦即一組狹,用於使一束粒子(如電子等),或一束光線通過該雙狹時,在離狹某一距離之屏(screen)上形成干涉(interference)條紋。狹間之距離必須還小於入射光之波長或物質波之波長。物質波波長可由下式決定:
  λ=h/p
  式中,λ為波長;p為入射粒子所具之動量;h為Planck常數。此種實驗通常稱謂雙實驗。
疲勞裂     
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  結構物在長時間承受交替負載下,因結構或材料瑕疵原因而產生的裂,稱為疲勞裂。在疲勞裂之裂面上,殘餘應力一般均不存在,利用此一特性,破裂力學實驗中,各種標準試片之製作均以此方式為主。
形成     
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  材料或構件在鑄造或加工過程中,無可避免的會存在很多微小空洞、裂,當此微觀空洞、裂受外力作用時,慢慢會擴張而成為巨觀裂,此階段謂之裂形成。巨觀裂之定義通常以肉眼可看見者為判斷。
光圈     
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  乃一狹,寬廣為光波長之數百倍,當光線從狹處通過時,會在螢幕上形成繞射條紋。有單狹光圈及雙狹光圈兩種。
驅動力     
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  含裂之物體,承受外加負載時,欲使裂產生延伸,則其能量釋放率G必須大於或等於裂阻抗R,此時之能量釋放率G亦稱之為裂驅動力。對於脆性與延性材料而言,由於裂阻抗R不同,故使其裂延伸時之臨界裂驅動力GC亦不相同。對脆性材料言,所需之臨界裂驅動力GC為定值,但對延性材料則臨界驅動力GC隨裂長度而改變。如圖所示。
尖端開口位移     
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  含裂之物體,其裂尖端開口位移(CTOD),乃指裂開口位移(COD)(參見crack opening displacement)於裂尖端位置的值。即當x=a時之位移值,
  1. 無塑性區產生,則CTOOD=0
  2. 有塑性區產生,則 遠小於a。
慢速裂成長     
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  一含裂之延性材料,在外加負載作用下,當其能量釋放率G等於或大於裂阻抗R時,裂會繼續延伸增長。惟由於延性材料之裂阻抗R為一曲線分佈,故當裂成長一增量後,能量釋放率G便小於阻抗R,欲肯使裂成長,必須再加大負載。在此情況下之裂成長稱之為慢速裂成長。
    
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空出時間、抽空、趁隙等。
不連續裂,不貫通裂     
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  一裂,並非百分之百貫穿,而含有裂開部分(crack part)與完整部分(intact part)者,如圖所示者,稱為一不連續裂或不貫通裂
  圖中 AB 為裂之全長;AC為裂開部分;CB為完整部分。若 AC 延伸至 B,則 AC=AB,此一裂就成為一連續裂或貫通裂
藏針     
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針織時應用於袖口、下襬、摺邊等處的合,將針腳隱藏而不露於外,針腳間的距離一般少於半公分。
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