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化學蒸汽沉積法 - 教育百科
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國家教育研究院辭書
基本資料
| 英文： | chemical vapor deposition method |
| 日期： | 2003年6月 |
| 出處： | 資訊與通信術語辭典 |
辭書內容
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名詞解釋： 指以沉積方式生長晶片的方法，以鈍氣（如氦氣、氬氣）為載體，將汽化的金屬氯化物流過單晶基片時，金屬可在其上沉積。本法的優點是厚度均勻但生長的速度慢。 |
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| 資料來源： | 國家教育研究院_化學蒸汽沉積法 |
| 授權資訊： | 資料採「 創用CC-姓名標示- 禁止改作 臺灣3.0版授權條款」釋出 |