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光彈性法應力分析 - 教育百科
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國家教育研究院辭書
基本資料
| 英文： | photoelastic method of stress analysis |
| 作者： | 陳兆勛 |
| 日期： | 2002年12月 |
| 出處： | 力學名詞辭典 |
辭書內容
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名詞解釋： 光彈性法是基於一些穿透性材料，尤其是塑膠材料的一種特性。現考慮一模型(model)中的某些結構是用光彈材料作成的；當此模型受到一應力作用之後，入射到此一光彈材料的光波將被分成兩部分，分別沿著兩主應力平面（即沒有剪應力的平面）前進。光沿主應力平面的前進速度，會因應力的不同而有所差別。 入射光波將會分解成兩平行主應力方向上前進，但因為前進的速度不同，當光穿透光彈材料之後就會有新的相位關係，或是說會有相對延遲量。此種現象被稱之為雙重折射或雙折射現象，在某些光學結晶材料(optical crystals)上也會有相同的現象；但光彈材料的雙折射現象則是人為而非自然形成，會因材料中的每一點的應力或應變狀態而有所不同。 在光彈材料中被分解的兩道光波，彼此會相互干涉；當此兩道光波的相對延遲量N為0,1,2,…等的週期時，則光波彼此會相互加強，而得到最大的光強度；若相對的延遲量N為1/2, 3/2, 5/2,…等的週期時，則兩光波的振幅因為到處相等且方向相反，造成破壞性干涉，光強因此變為零；介於最大與零之間的光強度與延遲量N有相對的關係。當相對延遲量N=0的地方造成了亮場，當相對延遲量N=1/2的地方，造成了暗場，當相對延遲量N=1的地方則又成了亮場。以光學干涉的術語而言，亮區或暗區被稱之干涉條紋，而延遲量N就被定義為干涉條紋的級數(order)。 |
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| 資料來源： | 國家教育研究院_光彈性法應力分析 |
| 授權資訊： | 資料採「 創用CC-姓名標示- 禁止改作 臺灣3.0版授權條款」釋出 |
貓頭鷹博士